<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Film on UV Lamp Plus</title>
		<link>http://uv-lamp-plus.com/uk/tags/film/</link>
		<description>Recent content in Film on UV Lamp Plus</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 09:52:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-plus.com/uk/tags/film/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Емітер УФ випромінювання з галієм для товстих плівок</title>
				<link>http://uv-lamp-plus.com/uk/posts/gallium-uv-emitter-for-thick-film/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 09:52:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-plus.com/uk/posts/gallium-uv-emitter-for-thick-film/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-plus.com/images/922aaf5f9a907f1d60ed6f8e999563af.png&#34; alt=&#34;Емітер УФ випромінювання з галієм для товстих плівок&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Щодо процесу висихання фарб у товстих шарах, то для цього необхідна енергія, яка буде відповідати довжині хвилі, що поглинається фотоініціатором, а також геометрії самої фарби. Якщо спектр світла лампи не відповідає цим умовам, на поверхні може утворитися „шкірка“, тоді як нижня частина залишається рідкою. Крім того, можливе пошкодження підложки через надмірну швидкість висихання.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що насправді має значення&lt;/strong&gt;&#xA;Процес висихання фарб у товстих шарах залежить від відповідності спектру світла довжині хвилі, що потрібна для активації фотоініціатора, а також від щільності поданої енергії. Емітери ультрафіолетового світла на основі галію фокусують світло при довжині хвилі близько 365 нм – саме ця довжина хвилі є оптимальною для фотоініціаторів, які використовуються у формулах фарб. Такий вибір довжини хвилі забезпечує послідовне проникнення фотонів крізь всі шари фарби, що сприяє її повному висиханню, а не лише на поверхні.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Лампа з галієм для сухої плівки</title>
				<link>http://uv-lamp-plus.com/uk/posts/gallium-uv-bulb-for-dry-film/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 07:53:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-plus.com/uk/posts/gallium-uv-bulb-for-dry-film/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-plus.com/images/6cc312534ff1783b04fbc4b2809bf677.jpg&#34; alt=&#34;Лампа з галієм для сухої плівки&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На повністю автоматичному еліптичному пресі час виконання одного циклу вимірюється у секундах. Кожна додаткова секунда швидкого висихання значно впливає на загальний час роботи преса, особливо коли йдеться про тисячі друкованих елементів. Якщо модуль УФ-загоювання не може досягти необхідного рівня інтенсивності випромінювання, чорнило залишається недостатньо загоєним. Тож доводиться збільшувати час перебування матеріалу під впливом випромінювання, що призводить до зниження продуктивності преса.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що має значення з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Лампи на основі галію призначені для створення спектру випромінювання в діапазоні 385–405 нм, що відповідає діапазону частот фотоініціаторів у багатьох формулах для друкованих матеріалів. Порівняно зі стандартними лампами на основі ртутного пару, лампи з галієм зменшують інтенсивність випромінювання в діапазоні 254 нм, що запобігає утворенню озону та перегріву поверхні матеріалу. Це дозволяє використовувати більше енергії в діапазоні, який може поглинатися фотоініціаторами, що призводить до швидшого процесу зв’язування молекул чорнила при меншій загальній дозі випромінювання. На еліптичному пресі ми прагнемо до стабільної довжини дуги, постійної інтенсивності випромінювання на всій поверхні матеріалу, а також до геометрії відбивача, яка забезпечує стабільну фокусну лінію навіть під час зниження інтенсивності випромінювання від лампи.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
